流片与封装

BCD-800nm

  • 800nm 700V BCD G3S

概述:800nm 700V BCD G3S是公司的标准高压工艺平台之一,是以较经济的光刻层数实现700V高压工艺,特别合适离线式电源(AC/DC)和LED 驱动产品设计,特征为800nm前端/500nm后端,单层多晶,双层金属,工艺平台提供常规及隔离的5V低压CMOS40V中压CMOS器件、700V LDMOS700V HV 耗尽管、700V JFET器件,以及多晶高阻和齐纳二极管等器件。

主要特点如下:

1. 0.8um前端、0.5um后端设计规则;

2. 模块化概念(HR/Zener/BJT/700V JFET/特殊要求);

3. 500V LDMOS(BVds550V)/650V LDMOS(BVds700V)/700V LDMOS(BVds750V)

4. JFET Voff-9V/-25V

5. 高阻值多聚电阻器:1K3K

应用:离线电源(AC/DC);LED驱动器。


  • 800nm 40V 高压电源模拟

概述:800nm HV P/A是公司的新一代高压工艺平台,是以最少光刻层数实现的经济高压工艺,工艺特征为800nm FEOL/350nm BEOL线宽,双层多晶,四层金属,应用于数模混合的高压产品。工艺平台提供常规及隔离的5V低压CMOS25V中压和40V高压CMOS器件,以及多晶高阻和齐纳二极管等器件。

主要特点如下:

1. 5V逻辑布局和性能与行业标准兼容;

2. 0.8um前端、0.35um后端设计规则;

3. 用于隔离器件的Epi工艺;

4. 模块化概念(HR/Zener/BJT/特殊要求);

5. Vgs/Vds=5V/25Vgs/Vds=5V/40VVgs/Vds=25V/25Vgs/Vds=40V/40V HVCMOS

6. 高阻值多聚电阻器;

7. 具有2KV HBM ESD保护级别的I/O单元库。

应用:LCD驱动器/LED驱动器;电源管理产品;电池保护IC